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【讨论】大家都是通过什么方法制备微纳结构的?
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[交流]
【讨论】大家都是通过什么方法制备微纳结构的?
已有9人参与
例如:
加工方法:光学曝光
结构类型:条形阵列、透镜阵列
加工的尺寸范围:大于等于8um
应用:用做模板
真诚的跟大家探讨,不一定要做过,如果知道也可以哦,呵呵,我知道的加工方法太少,所以,想跟大家学习~~~
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2010-04-13 10:28:47
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怎么没人回帖 难道是发错版了 这个不是微细加工么
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2楼
2010-04-13 10:59:42
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Originally posted by
渊源01
at 2010-04-13 12:10:09:
方法很多啊,SPS、溶胶凝胶法
可不可具体点
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5楼
2010-04-13 12:47:49
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Originally posted by
jabbawocky
at 2010-06-24 20:53:53:
你做微透镜阵列吗?
是的
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8楼
2010-07-01 21:37:26
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Originally posted by
杨晓晓
at 2010-09-01 20:50:33:
用水热的方法,在1微米一下,楼上说的都好深奥啊,我外行
水热法可以加工什么微结构?如有文章可否给个链接 呵呵 多谢啦
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17楼
2010-09-06 17:24:05
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Originally posted by
wanxia
at 2010-09-01 19:15:20:
纳米压印(NIL),聚焦离子束(FIB),还可以用原子力显微镜的扫描探针来做
原子力显微镜的扫描探针怎么做呢?有没文章 给个链接 或者题目 ^_^
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18楼
2010-09-06 17:25:18
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Originally posted by
jabbawocky
at 2010-06-24 20:53:53:
你做微透镜阵列吗?
做
19楼
2010-09-06 17:27:34
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19934623楼
:
Originally posted by
young158
at 2012-11-04 14:46:21
你好,我做300纳米的图形,已做好掩膜版,是不是应该采用深紫外曝光或者离子束曝光啊?这种设备哪个学校有啊,我是北京的。光刻胶是特有的型号吗?刻蚀采用RIE或者IBE?如果方便的话可以委托你们加工吗?
谢谢...
300nm的话最好通过电子束做吧 精度比较高 光学曝光恐怕做起来很费劲 光学曝光做1微米以上的图形还可以 另外 我暂时还没设备 过两年可能可以做
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21楼
2012-11-06 19:25:07
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