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chenglzu

至尊木虫 (著名写手)

[求助] 纳米微结构制作的问题 已有3人参与

最近因实验需要,希望能在硅片上制作一种纳米光栅和点阵结构,周期大概为400 nm左右,面积为2*2cm2左右,请问采用什么刻蚀方法性价比较高?还有那个地方可以提供这种加工服务?谢谢啦
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spiderman504

金虫 (小有名气)

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感谢参与,应助指数 +1
chenglzu: 金币+1, 有帮助 2014-10-30 08:16:34
PS小球或者SiO2小球掩膜,用ICP刻蚀可行
由于您的签名过于个性,小木虫暂时无法显示。。。
2楼2014-10-29 23:14:53
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chenglzu

至尊木虫 (著名写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by spiderman504 at 2014-10-29 23:14:53
PS小球或者SiO2小球掩膜,用ICP刻蚀可行

请问那地方可以代工啊?我是学生物的,这方面不熟悉啊
3楼2014-10-30 08:17:32
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spiderman504

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

引用回帖:
3楼: Originally posted by chenglzu at 2014-10-30 08:17:32
请问那地方可以代工啊?我是学生物的,这方面不熟悉啊...

搞电子,做半导体的地方应该都可以。
由于您的签名过于个性,小木虫暂时无法显示。。。
4楼2014-10-30 13:08:41
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lee0803

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖


感谢参与,应助指数 +1
chenglzu: 金币+1, ★★★很有帮助 2014-10-31 21:53:55
400nm 的周期是图形尺寸?那刻蚀深度呢?深度太深的话图形就被侧向刻蚀完了。
一般到400nm级别的尺寸就要电子束光刻了,光刻后再刻蚀就好。
5楼2014-10-30 18:40:45
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chenglzu

至尊木虫 (著名写手)

引用回帖:
5楼: Originally posted by lee0803 at 2014-10-30 18:40:45
400nm 的周期是图形尺寸?那刻蚀深度呢?深度太深的话图形就被侧向刻蚀完了。
一般到400nm级别的尺寸就要电子束光刻了,光刻后再刻蚀就好。

图形尺寸是2cm*2cm,深度大概为150nm,电子束有点小贵
6楼2014-10-31 21:53:47
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exciting73

金虫 (著名写手)


【答案】应助回帖


chenglzu: 金币+1, ★★★很有帮助 2014-11-12 21:25:23
精度要求不高的话可用光刻加上湿法腐蚀。
精度高的话就用电子束或纳米压印加上干刻。
7楼2014-11-11 12:01:17
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exciting73

金虫 (著名写手)


【答案】应助回帖

有很多地方可以提供加工服务,物理所、微电子所、苏州纳米所、各类大学
8楼2014-11-16 20:02:58
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