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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 纳米微结构制作的问题
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chenglzu

至尊木虫 (著名写手)

[求助] 纳米微结构制作的问题 已有3人参与

最近因实验需要，希望能在硅片上制作一种纳米光栅和点阵结构，周期大概为400 nm左右，面积为2*2cm2左右，请问采用什么刻蚀方法性价比较高？还有那个地方可以提供这种加工服务？谢谢啦
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@yswyx @静静一yi

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1楼 2014-10-29 22:55:52
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spiderman504

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
chenglzu: 金币+1, ★有帮助 2014-10-30 08:16:34
PS小球或者SiO2小球掩膜，用ICP刻蚀可行
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由于您的签名过于个性，小木虫暂时无法显示。。。
2楼2014-10-29 23:14:53
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chenglzu

至尊木虫 (著名写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by spiderman504 at 2014-10-29 23:14:53
PS小球或者SiO2小球掩膜，用ICP刻蚀可行

请问那地方可以代工啊？我是学生物的，这方面不熟悉啊
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3楼2014-10-30 08:17:32
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spiderman504

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

引用回帖:
3楼: Originally posted by chenglzu at 2014-10-30 08:17:32
请问那地方可以代工啊？我是学生物的，这方面不熟悉啊...

搞电子，做半导体的地方应该都可以。
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由于您的签名过于个性，小木虫暂时无法显示。。。
4楼2014-10-30 13:08:41
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lee0803

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
chenglzu: 金币+1, ★★★很有帮助 2014-10-31 21:53:55
400nm 的周期是图形尺寸？那刻蚀深度呢？深度太深的话图形就被侧向刻蚀完了。
一般到400nm级别的尺寸就要电子束光刻了，光刻后再刻蚀就好。
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5楼2014-10-30 18:40:45
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chenglzu

至尊木虫 (著名写手)
引用回帖:
5楼: Originally posted by lee0803 at 2014-10-30 18:40:45
400nm 的周期是图形尺寸？那刻蚀深度呢？深度太深的话图形就被侧向刻蚀完了。
一般到400nm级别的尺寸就要电子束光刻了，光刻后再刻蚀就好。

图形尺寸是2cm*2cm，深度大概为150nm，电子束有点小贵
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6楼2014-10-31 21:53:47
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exciting73

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★
chenglzu: 金币+1, ★★★很有帮助 2014-11-12 21:25:23
精度要求不高的话可用光刻加上湿法腐蚀。
精度高的话就用电子束或纳米压印加上干刻。
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7楼2014-11-11 12:01:17
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exciting73

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

有很多地方可以提供加工服务，物理所、微电子所、苏州纳米所、各类大学
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8楼2014-11-16 20:02:58
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