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H2-TPR出现负峰
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tianjin207
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H2-TPR出现负峰
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各位亲们,最近做Ni/Al2O3催化剂的H2-TPR,在300-400度之前老是出现负峰,对比文献,文献中讲到在300度左右会出现强度比较小的正峰,但是我的一直是这种情况,一直找不到原因。请各位大神不吝赐教。
我的预处理情况:
Ar在200度下,预处理90min,然后在10%H2-Ar的条件下以10K/min的速率下升温到900度,其中气体的流量为30ml/min。
H2-TPR.png
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1楼
2015-06-17 15:31:46
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susu001
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8楼
2015-06-21 10:31:43
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zyhou
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liwentao2010: 金币+2, 谢谢回帖,辛苦
2015-06-17 16:05:52
前处理温度太低了!有可能是载体脱附的水!
可以在高温下预处理一下试试看!
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2楼
2015-06-17 16:01:23
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tianjin207
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2楼
:
Originally posted by
zyhou
at 2015-06-17 16:01:23
前处理温度太低了!有可能是载体脱附的水!
可以在高温下预处理一下试试看!
你好,你之前做过这样的H2-TPR前处理吗???我看到有些文献中用到前处理的温度473K,或者573K,你觉着前处理温度在什么范围比较合适???
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3楼
2015-06-17 16:25:05
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LIXINZHENG
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可不可能是氢气吸附在活性组分得到金属氢化物释放出的氢气。
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4楼
2015-06-17 19:46:07
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