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卧梅又闻花

木虫 (小有名气)

[交流] 表面等离子体共振是否会影响半导体能带间隙?

小弟刚入手半导体光催化方向,现遇到一个疑问,求助虫友。(半道出家,没有理论基础,问的问题可能挺粗浅,勿喷哈)
        目前关注了Au、Ag等贵金属在TiO2可见光光催化中的工作,其中,看到不少关于Au(Ag)|SiO2|TiO2“三明治”结构的报道。Au在光的激发下,其表面出现很强的表面等离子体共振(resonant surfaceplasmons),Au与TiO2之间的偶极子相互作用将等离子能量转移至半导体,并且促使半导体产生电子/空穴对。(Cushing, S. K. et al. Photocatalytic Activity Enhanced by Plasmonic Resonant Energy Transfer from Metal to Semiconductor. J. Am. Chem. Soc. 134, 15033-15041)那么在这个过程中,半导体的能带间隙会不会有变化呢?如果有的话,能通过什么手段进行表征呢?
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卧梅又闻花

木虫 (小有名气)

送红花一朵
引用回帖:
5楼: Originally posted by HongzhenLin at 2015-06-18 16:45:15
首先明确一点,dipole-dipole coupling通常是指较远距离的偶极与偶极之间通过静电力产生的耦合作用,可以近似理解为:一个分子或微粒上发生正负电荷中心的相对运动时(能级跃迁),诱使临近的分子或微粒上发生方向 ...

拨云见日的指导!
感谢您的点拨!一扫萦绕多日的困惑!谢谢!
6楼2015-06-25 20:50:40
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HongzhenLin

金虫 (著名写手)

★ ★ ★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
liwentao2010: 金币+3, 回帖详实,节日快乐,欢迎常来交流 2015-06-21 10:03:05
属于直接带隙半导体,一般可采用紫外吸收谱来测,但贵金属颗粒会影响吸收边的确定。复合时难以避免的掺杂效应本身就会改变TiO2的带隙, 很难从实验角度排除。surface plasmon polariton与原有能级结构强烈耦合产生新能级的报导,文献上有很多,例如http://pubs.acs.org/doi/abs/10.1021/nl903455z,所以理论上也存在改变能带结构的可能。不过,在你所述的复合体系中,即使有这种效应也仅仅局限于与贵金属表面紧密接触(相距4 nm左右)的很小一部分TiO2。如果你没有看到贵金属颗粒的SP共振吸收峰位置在复合前后发生明显改变,基本上可以排除两者之间强烈耦合的可能。主要的作用应该还是类似FRET那样的dipole-dipole coupling,还有qudrapole-dipole coupling。
2楼2015-06-17 18:36:56
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xiaochong8693

木虫之王 (文坛精英)

为楼主留下满满的祝福
祝福楼主和各位虫友 一切顺利!
3楼2015-06-17 19:27:39
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卧梅又闻花

木虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by HongzhenLin at 2015-06-17 18:36:56
属于直接带隙半导体,一般可采用紫外吸收谱来测,但贵金属颗粒会影响吸收边的确定。复合时难以避免的掺杂效应本身就会改变TiO2的带隙, 很难从实验角度排除。surface plasmon polariton与原有能级结构强烈耦合产生新 ...

相对于Au的紫外吸收峰,Au|SiO2|TiO2复合体系的紫外吸收峰出现二十纳米左右的红移,这是否可以确定是dipole-dipole coupling导致的?
4楼2015-06-18 10:15:47
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