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微波等离子体激发氩气
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leibniz713
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专业: 碳素材料与超硬材料
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微波等离子体激发氩气
有没有人尝试过在MPCVD设备上氩气激发等离子体。我准备用MPCVD制备超纳米金刚石膜(UNCD),调研文献基本都是氩气做主导气体。
但实际操作的时候发现,氩气很难激发出理想的等离子体,与以往氢气做主导气体差别很大。不知道有没有做过UNCD的同学能介绍一下经验。
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1楼
2013-10-14 12:38:31
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leibniz713
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2013-10-14 15:38:59
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龙行者
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【答案】应助回帖
感谢参与,应助指数 +1
本人也同样采用氩气生长UNCD,通过多次试验,认为必须通少量氢气才能稳定等离子球,通过先升高气压,再升高功率,且功率升高不要过快,不然就不稳定了!因装置而异,还需要自己慢慢调试!祝你成功!
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要混就混出个名堂
3楼
2013-10-16 21:43:35
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leibniz713
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3楼
:
Originally posted by
龙行者
at 2013-10-16 21:43:35
本人也同样采用氩气生长UNCD,通过多次试验,认为必须通少量氢气才能稳定等离子球,通过先升高气压,再升高功率,且功率升高不要过快,不然就不稳定了!因装置而异,还需要自己慢慢调试!祝你成功!
我认为气体的通入可以分这几种:1.氢气先通入激发后再通入氩气,
2.氢气氩气同时通入激发
3氩气先通入激发后再通氢气稳定
请问你是怎么样的情况?
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4楼
2013-10-17 08:41:07
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龙行者
at 2013-10-16 21:43:35
本人也同样采用氩气生长UNCD,通过多次试验,认为必须通少量氢气才能稳定等离子球,通过先升高气压,再升高功率,且功率升高不要过快,不然就不稳定了!因装置而异,还需要自己慢慢调试!祝你成功!
你好,虫友,想问一下你使用MPCVD加氩气稳定放电的操作过程,我最近也遇到了相同的问题,不胜感激。
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5楼
2019-11-30 16:10:44
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戴眼镜的麋鹿
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专业: 机械摩擦学与表面技术
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4楼
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Originally posted by
leibniz713
at 2013-10-17 08:41:07
我认为气体的通入可以分这几种:1.氢气先通入激发后再通入氩气,
2.氢气氩气同时通入激发
3氩气先通入激发后再通氢气稳定
请问你是怎么样的情况?...
你好,虫友,想问一下你使用MPCVD加氩气稳定放电的操作过程,我最近也遇到了相同的问题,不胜感激。
我单纯通入氩气启辉时,等离子体不在基片台上方,必须通入50%以上的氢气才能保证在正常位置启辉,能否提供一些建议,谢谢。
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6楼
2019-11-30 16:13:26
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