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lishuai602

新虫 (初入文坛)

[求助] 单晶硅片清洗 已有3人参与

请问各位,谁能帮忙解释一下在单晶硅片清洗过程中,如果使用KOH和双氧水均匀混合的溶液清洗硅片,则硅片表现正常,不会发生腐蚀;但单独用KOH溶液清洗硅片,就会发生硅片腐蚀,为什么呢?前者和后者不都是硅片和KOH直接接触的么?
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郭先生朋友

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

H2O2现在硅表面氧化一层氧化膜,KOH腐蚀氧化膜,用这样方法反复氧化腐蚀,去除硅表面污染物

[ 发自小木虫客户端 ]
5楼2015-02-14 14:57:31
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买酒白云边

金虫 (知名作家)

居然解释不了,坐等高人解惑

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
人造金刚石及其制品And周边设备
2楼2015-02-06 01:03:27
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kjwu

捐助贵宾 (正式写手)


感谢参与,应助指数 +1
keailinger: 金币+1, 应助指数-1, 感谢发帖应助,欢迎常来工艺技术版。 2015-02-12 08:26:55
先确认是真的没有刻蚀,还是表面同向刻蚀,它和只有KOH的表面异向刻蚀是不同的

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
3楼2015-02-06 17:13:37
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TXJ2013

专家顾问 (职业作家)

【答案】应助回帖

★ ★
keailinger: 金币+2, 感谢专家应助交流,欢迎常来工艺技术版。 2015-02-12 08:27:48
KOH溶液直接清洗硅片,应该会腐蚀,用H2O2,应该是在硅片上形成一层保护性薄膜,
天行健,君子以自强不息;地势坤,君子以厚德载物。
4楼2015-02-11 21:05:42
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