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单晶硅片清洗 已有3人参与
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| 请问各位，谁能帮忙解释一下在单晶硅片清洗过程中，如果使用KOH和双氧水均匀混合的溶液清洗硅片，则硅片表现正常，不会发生腐蚀；但单独用KOH溶液清洗硅片，就会发生硅片腐蚀，为什么呢？前者和后者不都是硅片和KOH直接接触的么？ |
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