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单晶硅片清洗 已有3人参与
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| 请问各位,谁能帮忙解释一下在单晶硅片清洗过程中,如果使用KOH和双氧水均匀混合的溶液清洗硅片,则硅片表现正常,不会发生腐蚀;但单独用KOH溶液清洗硅片,就会发生硅片腐蚀,为什么呢?前者和后者不都是硅片和KOH直接接触的么? |
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2楼2015-02-06 01:03:27
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TXJ2013
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Happy白杨
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