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单晶硅片清洗
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lishuai602
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专业: 碳素材料与超硬材料
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单晶硅片清洗
已有3人参与
请问各位,谁能帮忙解释一下在单晶硅片清洗过程中,如果使用KOH和双氧水均匀混合的溶液清洗硅片,则硅片表现正常,不会发生腐蚀;但单独用KOH溶液清洗硅片,就会发生硅片腐蚀,为什么呢?前者和后者不都是硅片和KOH直接接触的么?
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1楼
2015-02-05 15:42:55
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TXJ2013
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专业: 有机化学
管辖:
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【答案】应助回帖
★ ★
keailinger: 金币+2, 感谢专家应助交流,欢迎常来工艺技术版。
2015-02-12 08:27:48
KOH溶液直接清洗硅片,应该会腐蚀,用H2O2,应该是在硅片上形成一层保护性薄膜,
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天行健,君子以自强不息;地势坤,君子以厚德载物。
4楼
2015-02-11 21:05:42
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虫号: 1707423
注册: 2012-03-21
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专业: 无机化工
居然解释不了,坐等高人解惑
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人造金刚石及其制品And周边设备
2楼
2015-02-06 01:03:27
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kjwu
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专业: 凝聚态物性 II :电子结构
★
感谢参与,应助指数 +1
keailinger: 金币+1, 应助指数-1, 感谢发帖应助,欢迎常来工艺技术版。
2015-02-12 08:26:55
先确认是真的没有刻蚀,还是表面同向刻蚀,它和只有KOH的表面异向刻蚀是不同的
[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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3楼
2015-02-06 17:13:37
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郭先生朋友
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专业: 半导体材料
【答案】应助回帖
H2O2现在硅表面氧化一层氧化膜,KOH腐蚀氧化膜,用这样方法反复氧化腐蚀,去除硅表面污染物
[ 发自小木虫客户端 ]
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5楼
2015-02-14 14:57:31
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