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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » SU 8 光刻 问题，希望各位大神指点一下
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mwjsx

新虫 (初入文坛)

[求助] SU 8 光刻 问题，希望各位大神指点一下 已有4人参与

先介绍一下基本情况 本人用的SU-8 2100, 旋涂80 微米，前烘: 65度 5分钟，95度15分钟; 后烘: 65度1分钟，95度7分钟; 显影: PGMEA中超声显影40分钟。想做的结构是一个三维的锯齿状的结构，处理后得到的横截面图，可以 看到图中的结构有些弯曲，查了一些文献，原因可能是su-8 吸收了一部分显影液变软了，请问各位大神还有什么其他的原因呢? 我的流程中有什么可以改进的? 谢谢！！！！

SU 8 光刻 问题，希望各位大神指点一下
锯齿状横截面
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1楼 2015-02-04 19:00:30
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回帖支持 ( 显示支持度最高的前 50 名 )

exciting73

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
锯齿是对称的吗？这个深宽比还挺大。
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2楼2015-02-05 07:49:20
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普通回帖

yswyx

专家顾问 (著名写手)
感谢参与，应助指数 +1
dgf2008: 屏蔽内容, 过期内容！ 2017-07-25 23:33:05
本帖内容被屏蔽
3楼2015-02-05 13:11:00
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mwjsx

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by exciting73 at 2015-02-05 07:49:20
锯齿是对称的吗？这个深宽比还挺大。

不是对称的，一边是垂直的一边是斜坡。深宽比是4:1左右吧。
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4楼2015-02-05 18:58:58
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mwjsx

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by yswyx at 2015-02-05 13:11:00
不一定是泡显影液的问题。
也有很大可能是应力问题。你在各个工艺步骤之间没有静置足够的时间保证应力的充分释放。具体的建议咨询苏州锐材半导体，不过他们卖的是另一家的SU8，你咨询的话试试吧。

哦，谢谢，我也想到这个问题，但是我已经尝试较长时间的静置了，涂胶，前烘，曝光 分别间隔了2小时和一个晚上，不知道是否够呢?
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5楼2015-02-05 19:03:29
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yuanxin5254

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
你涂的胶厚85um?这么厚做什么啊，我们一般就1um
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我们坚持做一件事情，并不是这样做了有效果，而是坚信，这样做了是对的。
6楼2015-02-05 23:47:33
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nancy10214

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
交联的SU-8胶结构内应力很大,可以导致基底弯曲变形和胶的开裂. 所以加热必须缓慢,冷却应在热板上随热板冷却到室温。另外你的结构不对称应力体现更明显。yswyx是高手，他们做的很多，问问试试。
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7楼2015-02-06 09:01:02
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exciting73

金虫 (著名写手)
引用回帖:
4楼: Originally posted by mwjsx at 2015-02-05 18:58:58
不是对称的，一边是垂直的一边是斜坡。深宽比是4:1左右吧。...

哦，这种用灰度曝光胶更好一些吧。
前后烘时不要先把热板加热到预设温度，可以把基片放到热板上之后从较低的温度开始加热，要缓慢升温。
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8楼2015-02-10 10:46:18
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mwjsx

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
7楼: Originally posted by nancy10214 at 2015-02-06 09:01:02
交联的SU-8胶结构内应力很大,可以导致基底弯曲变形和胶的开裂. 所以加热必须缓慢,冷却应在热板上随热板冷却到室温。另外你的结构不对称应力体现更明显。yswyx是高手，他们做的很多，问问试试。

我的样品都是缓慢加热和冷却的，谢谢你的意见！！！
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9楼2015-02-16 17:16:34
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mwjsx

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
8楼: Originally posted by exciting73 at 2015-02-10 10:46:18
哦，这种用灰度曝光胶更好一些吧。
前后烘时不要先把热板加热到预设温度，可以把基片放到热板上之后从较低的温度开始加热，要缓慢升温。...

谢谢，我都是缓慢升温和冷却的
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10楼2015-02-16 17:18:01
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