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SU 8 光刻 问题，希望各位大神指点一下 已有4人参与
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先介绍一下基本情况 本人用的SU-8 2100, 旋涂80 微米，前烘: 65度 5分钟，95度15分钟; 后烘: 65度1分钟，95度7分钟; 显影: PGMEA中超声显影40分钟。想做的结构是一个三维的锯齿状的结构，处理后得到的横截面图，可以 看到图中的结构有些弯曲，查了一些文献，原因可能是su-8 吸收了一部分显影液变软了，请问各位大神还有什么其他的原因呢? 我的流程中有什么可以改进的? 谢谢！！！！ 锯齿状横截面 |
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dgf2008: 屏蔽内容, 过期内容！ 2017-07-25 23:33:05
dgf2008: 屏蔽内容, 过期内容！ 2017-07-25 23:33:05
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3楼2015-02-05 13:11:00
exciting73 
金虫 (著名写手)
- 应助: 110 (高中生)
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- 红花: 20
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- 在线: 272.7小时
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- 性别: GG
- 专业: 半导体材料
2楼2015-02-05 07:49:20
4楼2015-02-05 18:58:58
5楼2015-02-05 19:03:29
