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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 硅衬底上的超薄二氧化硅层怎么准确测量
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haipinghu008

金虫 (正式写手)

[求助] 硅衬底上的超薄二氧化硅层怎么准确测量 已有2人参与

在多晶制绒、扩散、去磷硅玻璃后的硅片上用某设备长超薄的二氧化硅层，其厚度预计约6nm-10nm，这个厚度是根据亲水性预估的，因硅片的亲水性较好，一般呈亲水性，其厚度在6nm以上？多晶硅片绒面的大小：长端长度为4-7um，窄端长度为2-4um，深度为1-4um，不知用什么方法可以较准确地测量出该硅片上面的超薄二氧化硅层？
如不能，用硅抛光片代替常规硅片，直接在该设备上长二氧化硅层，因抛光片表面非常平整且未掺杂，预计生成的二氧化硅层厚度更薄，不知可在抛光片上测量其生长的二氧化硅层厚度？
谢谢！
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1楼 2015-01-30 10:14:16
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wangganglzu

至尊木虫 (职业作家)
引用回帖:
7楼: Originally posted by haipinghu008 at 2015-01-30 16:26:08
好像30nm以下测试很不准确，10nm椭偏仪好像不行的啊

可以的，没问题的，我们这做SOI材料的，均是用椭偏测试仪测试，误差在埃量级
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天道酬勤
8楼2015-01-30 16:50:51
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liupeitao08

银虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
haipinghu008: 金币+10, ★★★很有帮助, 关键是在微米级的绒面上测试纳米级的二氧化硅层不知可以否？TEM会不会损坏探针？谢谢！ 2015-01-30 10:58:57
可以用SEM，但是最好用TEM
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2楼2015-01-30 10:53:49
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石银东

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

商家已经主动声明此回帖可能含有宣传内容
感谢参与，应助指数 +1
我可以理解为您说的是单层膜厚度的测量：基底（微米级别区域）+薄膜（纳米级别的厚度），可以使用顶级薄膜测厚仪，在半导体行业应用较多，可以形成最小5微米的光斑，测试膜厚的精度为0.1nm，也就是1A，最多可以测试5层膜厚，所以对你说的样品是可以实现测量的。

有兴趣可以加下扣扣，我给你点资料看看。
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3楼2015-01-30 10:55:05
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haipinghu008

金虫 (正式写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 石银东 at 2015-01-30 10:55:05
我可以理解为您说的是单层膜厚度的测量：基底（微米级别区域）+薄膜（纳米级别的厚度），可以使用顶级薄膜测厚仪，在半导体行业应用较多，可以形成最小5微米的光斑，测试膜厚的精度为0.1nm，也就是1A，最多可以测试 ...

硅衬底表面已被制成微米级的绒面，该绒面类似于人踩在沙滩上的脚印，再在该绒面上长二氧化硅层（预计10nm以内），其它都理解正确，我的Q：406267518，希望能详细了解，不知为啥不能给你金币，请版主帮忙，2天之内回帖，一律赏10金币，非常感谢！
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4楼2015-01-30 11:05:16
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