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haipinghu008

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[求助] 硅衬底上的超薄二氧化硅层怎么准确测量已有2人参与

在多晶制绒、扩散、去磷硅玻璃后的硅片上用某设备长超薄的二氧化硅层，其厚度预计约6nm-10nm，这个厚度是根据亲水性预估的，因硅片的亲水性较好，一般呈亲水性，其厚度在6nm以上？多晶硅片绒面的大小：长端长度为4-7um，窄端长度为2-4um，深度为1-4um，不知用什么方法可以较准确地测量出该硅片上面的超薄二氧化硅层？
如不能，用硅抛光片代替常规硅片，直接在该设备上长二氧化硅层，因抛光片表面非常平整且未掺杂，预计生成的二氧化硅层厚度更薄，不知可在抛光片上测量其生长的二氧化硅层厚度？
谢谢！

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1楼2015-01-30 10:14:16

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haipinghu008

金虫 (正式写手)

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引用回帖:

3楼: Originally posted by 石银东 at 2015-01-30 10:55:05
我可以理解为您说的是单层膜厚度的测量：基底（微米级别区域）+薄膜（纳米级别的厚度），可以使用顶级薄膜测厚仪，在半导体行业应用较多，可以形成最小5微米的光斑，测试膜厚的精度为0.1nm，也就是1A，最多可以测试 ...

硅衬底表面已被制成微米级的绒面，该绒面类似于人踩在沙滩上的脚印，再在该绒面上长二氧化硅层（预计10nm以内），其它都理解正确，我的Q：406267518，希望能详细了解，不知为啥不能给你金币，请版主帮忙，2天之内回帖，一律赏10金币，非常感谢！