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haipinghu008

金虫 (正式写手)

[求助] 硅衬底上的超薄二氧化硅层怎么准确测量已有2人参与

在多晶制绒、扩散、去磷硅玻璃后的硅片上用某设备长超薄的二氧化硅层,其厚度预计约6nm-10nm,这个厚度是根据亲水性预估的,因硅片的亲水性较好,一般呈亲水性,其厚度在6nm以上?多晶硅片绒面的大小:长端长度为4-7um,窄端长度为2-4um,深度为1-4um,不知用什么方法可以较准确地测量出该硅片上面的超薄二氧化硅层?
如不能,用硅抛光片代替常规硅片,直接在该设备上长二氧化硅层,因抛光片表面非常平整且未掺杂,预计生成的二氧化硅层厚度更薄,不知可在抛光片上测量其生长的二氧化硅层厚度?
谢谢!
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石银东

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

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感谢参与,应助指数 +1
我可以理解为您说的是单层膜厚度的测量:基底(微米级别区域)+薄膜(纳米级别的厚度),可以使用顶级薄膜测厚仪,在半导体行业应用较多,可以形成最小5微米的光斑,测试膜厚的精度为0.1nm,也就是1A,最多可以测试5层膜厚,所以对你说的样品是可以实现测量的。

有兴趣可以加下扣扣,我给你点资料看看。
3楼2015-01-30 10:55:05
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