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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 综合其他 » 氧化铝 Al2O3薄膜去除
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木星人士

新虫 (正式写手)

[求助] 氧化铝 Al2O3薄膜去除 已有3人参与

大家好!我想去除正性光刻胶上通过电子束蒸发沉积的氧化铝薄膜，200nm厚度。请问用什么溶液或混合液能腐蚀得到较平整的膜表面？
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1楼 2014-11-17 23:49:18
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木星人士

新虫 (正式写手)
求指点:-)

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2楼2014-11-18 14:05:40
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exciting73

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
请问你是说把正胶上的氧化铝膜去掉，但需要保证正胶膜表面平整吗？
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3楼2014-11-19 19:47:18
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
用氢氟酸和硝酸的混合酸试试。
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4楼2014-11-19 21:52:55
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木星人士

新虫 (正式写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by exciting73 at 2014-11-19 19:47:18
请问你是说把正胶上的氧化铝膜去掉，但需要保证正胶膜表面平整吗？

是的。正胶的显影液一般是碱性溶液，所以考虑用酸类去除氧化铝。请问你有尝试过吗？具体什么溶液呢

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5楼2014-11-20 00:09:13
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木星人士

新虫 (正式写手)
引用回帖:
4楼: Originally posted by peterflyer at 2014-11-19 21:52:55
用氢氟酸和硝酸的混合酸试试。

好的。希望3170光刻胶不会和硝酸和氢氟酸反应。

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6楼2014-11-20 00:23:42
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exciting73

金虫 (著名写手)
引用回帖:
5楼: Originally posted by 木星人士 at 2014-11-20 00:09:13
是的。正胶的显影液一般是碱性溶液，所以考虑用酸类去除氧化铝。请问你有尝试过吗？具体什么溶液呢
...

没有试过。不过酸性较强的话对正胶腐蚀也会很严重。
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7楼2014-11-21 00:25:31
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zhangxqustc

铁虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

氧化铝刻蚀液——Transetch—N。
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永恒
8楼2014-11-21 23:24:31
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