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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 催化 » 理论交流 » H2-TPR疑问，求交流
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cholocate5

金虫 (正式写手)

[求助] H2-TPR疑问，求交流 已有1人参与

小弟最近做了几个自制催化剂的H2-TPR实验，条件是这样的，先350℃ Ar吹扫0.5小时，降至常温后，H2/Ar混合气，先基线走平0.5h，然后从常温10℃/min升温至800℃，得到的曲线中发现，基线走平后升温的前端，100℃~200℃以下的温度区间出现明显的负峰，与高温下的还原峰方向相反。如下面的一些图所示，与仪器工程师交流，怀疑是在基线走平阶段可能有部分H2在催化剂表面吸附，然后升温的时候H2脱附，造成了负峰。这样的话我想，如果也像TPD一样，一些吸附位需要在高温下才脱附的话，催化剂还原消耗H2，而高温脱附产生H2，不是也会影响的最终的检测信号吗？这样的话是不是分析就不准了。

想问一下我的分析有没有什么问题，该怎样避免这个吸附而产生的偏差，再做个H2-TPD减一下？

H2-TPR疑问，求交流
1.gif


H2-TPR疑问，求交流-1
2.gif
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1楼 2014-11-13 17:37:06
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cholocate5

金虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by zyhou at 2014-11-14 07:45:54
首先要保证不是仪器波动造成的。
这个要看是什么催化材料！对于一些复合催化剂，既有氢吸附溢流、又有可还原物种。
我做过Ni负载在ZrO2-SiO2上，也发现过类似现象！
International Journal of Hydrogen Energy,  ...

谢谢您的回复。是应该算是复合材料吧，只知道含Ni,Fe,别人的材料，什么方法做不太清楚。谢谢您，我先看看文献。

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3楼2014-11-14 08:07:45
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zyhou

专家顾问 (文坛精英)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
liwentao2010: 金币+1, 谢谢回帖，欢迎常来交流 2014-11-14 16:20:16
cholocate5(liwentao2010代发): 金币+4 2014-12-28 18:04:11
首先要保证不是仪器波动造成的。
这个要看是什么催化材料！对于一些复合催化剂，既有氢吸附溢流、又有可还原物种。
我做过Ni负载在ZrO2-SiO2上，也发现过类似现象！
International Journal of Hydrogen Energy, Volume 33, Issue 20, October 2008, Pages 5493-5500
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2楼2014-11-14 07:45:54
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