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86272676

铜虫 (初入文坛)

[交流] HF酸刻蚀SiO2的条件 已有4人参与

二氧化硅包碳,我用5%HF酸、室温下搅拌24小时来刻蚀二氧化硅。能够刻蚀完全么?做XRD也看不出来还有没有硅。求各大神指教~
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初见-XP

金虫 (正式写手)

2楼2014-05-27 08:43:18
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86272676

铜虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 初见-XP at 2014-05-27 08:43:18
TEM看

是对比刻蚀前后么?
3楼2014-05-27 09:29:21
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初见-XP

金虫 (正式写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
引用回帖:
3楼: Originally posted by 86272676 at 2014-05-27 09:29:21
是对比刻蚀前后么?

嗯,就算不对比,有空的话TEM很容易看出来的
4楼2014-05-27 13:44:29
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台海相连

金虫 (小有名气)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
模板法使用的的二氧化硅是非晶的,XRD是看不到的,建议做个能谱就知道了
5楼2014-05-28 08:04:55
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86272676

铜虫 (初入文坛)

引用回帖:
5楼: Originally posted by 台海相连 at 2014-05-28 08:04:55
模板法使用的的二氧化硅是非晶的,XRD是看不到的,建议做个能谱就知道了

好的,谢谢~
6楼2014-05-29 08:55:46
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troychen01

新虫 (小有名气)


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我想问一下应该加热到多少度呢,如果是浸泡在10%的HF里24h,温度太高那么HF应该是容易挥发的吧。
7楼2015-05-10 20:43:12
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洋洋112

新虫 (初入文坛)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
群主你好,想问下你包碳是用葡萄糖么
8楼2016-10-24 09:40:51
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