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急问:磁控溅射生长NiO薄膜,测不出XRD? 多谢!
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查看: 3012 | 回复: 16
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ljlaser
铁虫
(初入文坛)
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(幼儿园)
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虫号: 343930
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性别: GG
专业: 光学和光电子材料
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]
急问:磁控溅射生长NiO薄膜,测不出XRD? 多谢!
已有9人参与
急问:磁控溅射生长NiO薄膜,测不出XRD? 多谢!
新手上路,哈哈
射频生长、NiO薄膜,想测出XRD:
3寸NiO靶材,在玻璃基板上,
首先,用120w,170w的RF,通Ar:O2 为15,15sccm,沉积1小时,虽然靶材中间出现了裂纹,但生长的膜,还是太薄,或者结晶差,测不出XRD。
然后,用100w的RF,通Ar:O2 为50,50sccm,沉积1小时,还是测不出XRD的峰。
到底该怎么做呢?
多谢!
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1楼
2014-05-19 09:24:42
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mingxu
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引用回帖:
7楼
:
Originally posted by
jedi-j
at 2014-05-21 21:00:18
可能之一:点火与通气步骤不对,导致电弧放电…
...
这样下去很危险,小心仪器给废了,有的修,至于结晶度,如果别的没有问题,还是关注温度和氧压,
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dream
8楼
2014-05-22 07:50:33
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刺客yl
铁虫
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专业: 畜牧学
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用XRD是不好测的,本来就是薄膜,趁机上去的结晶度低。建议用XPS看看。
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2楼
2014-05-19 14:55:41
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休眠火山
禁虫
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XRD&SEM qq2978260443
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专业: 结构陶瓷
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首先是要用测薄膜的特殊的XRD附件。如果没有这个东西是不行的。
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3楼
2014-05-19 21:35:41
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chyan1102
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沉积的膜太薄,结晶性查的话是测不出来的
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4楼
2014-05-21 10:38:30
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