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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 急问：磁控溅射生长NiO薄膜，测不出XRD？ 多谢！
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ljlaser

铁虫 (初入文坛)

[求助] 急问：磁控溅射生长NiO薄膜，测不出XRD？ 多谢！已有9人参与

急问：磁控溅射生长NiO薄膜，测不出XRD？ 多谢！
新手上路，哈哈
射频生长、NiO薄膜，想测出XRD：
3寸NiO靶材，在玻璃基板上，
首先，用120w，170w的RF，通Ar：O2 为15，15sccm，沉积1小时，虽然靶材中间出现了裂纹，但生长的膜，还是太薄，或者结晶差，测不出XRD。
然后，用100w的RF，通Ar：O2 为50，50sccm，沉积1小时，还是测不出XRD的峰。

到底该怎么做呢？

多谢！
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1楼2014-05-19 09:24:42
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mingxu

铁杆木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
温度呢？你这个尽然把靶都弄裂了，什么情况，
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dream
5楼2014-05-21 19:46:13
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刺客yl

铁虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
用XRD是不好测的，本来就是薄膜，趁机上去的结晶度低。建议用XPS看看。
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2楼2014-05-19 14:55:41
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休眠火山

禁虫 (知名作家)

XRD&SEM qq2978260443

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
首先是要用测薄膜的特殊的XRD附件。如果没有这个东西是不行的。
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3楼2014-05-19 21:35:41
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chyan1102

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
沉积的膜太薄，结晶性查的话是测不出来的
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4楼2014-05-21 10:38:30
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