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我用的是su8 2075 为什么我所形成的圆柱体 上大下小 底部看上去挺圆的 但顶部有多余的部分怎么也显影不掉 参数：780rmp 40秒 4240rmp 90秒 前烘 65℃ 3min 95℃ 9min 曝光 100秒 后烘 65℃ 2min 94℃ 7min 膜厚大概40微米 掩膜版是直径为20微米的圆形阵列 基底是普通玻璃 我也试过曝光30秒，结果相似 但与基底的结合性更差  搜狗截图20140515191250.jpg |
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曝光不足一般是会有T-top，但下面会小很多，比mask上面肯定要小，而且容易倒伏。 你这个T-top底部尺寸没有小，说明曝光剂量足够了。那么T-top的形成应该属于曝光过量，尤其是玻璃衬底的底部反射会很强烈。另外，可以看到光刻胶底部有黑色阴影，那个也属于没显影掉的部分，可能底部也曝光过量了。 SU8的曝光剂量并不高，至少我使用的是这样的。像我们的胶如果在40um的厚度的话，曝光剂量一般在150~200mJ/cm2之间。对于一般的进口光刻机，ghi三个谱线光强叠加一般是几十mW，曝光时间应该是在10秒以内。国产光刻机的话时间可能会翻番。 所以我建议在10s周围做一个分区域的曝光剂量实验。 |
6楼2014-05-17 15:46:21
tsung
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2楼2014-05-15 20:57:33
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3楼2014-05-16 10:04:26
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4楼2014-05-16 14:41:36
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5楼2014-05-16 16:00:25
静静一yi
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7楼2014-05-18 15:09:27
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8楼2014-05-19 09:47:55
supernatural: 屏蔽内容, 不允许在帖子里留下联系方式，如需联系，请站内短消息联系 2014-05-19 22:02:17
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9楼2014-05-19 14:15:09
10楼2014-05-19 16:43:19
