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龙骧将军

铁虫 (小有名气)

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[求助] su8光刻已有2人参与

我用的是su8 2075 为什么我所形成的圆柱体  上大下小底部看上去挺圆的但顶部有多余的部分怎么也显影不掉

参数：780rmp  40秒 4240rmp 90秒
前烘 65℃  3min  95℃ 9min
曝光 100秒
后烘  65℃  2min  94℃ 7min
膜厚大概40微米
掩膜版是直径为20微米的圆形阵列  基底是普通玻璃
我也试过曝光30秒，结果相似但与基底的结合性更差

搜狗截图20140515191250.jpg

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@静静一yi

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whathurtsmorethepainofhardworkorthepainofregret

1楼 2014-05-15 19:20:15

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yswyx

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引用回帖:

5楼: Originally posted by 龙骧将军 at 2014-05-16 16:00:25
但我圆柱体的顶部直径明显比掩膜版上的20微米来的大，而底部的与20微米挺相近的圆形也挺好的...

曝光不足一般是会有T-top，但下面会小很多，比mask上面肯定要小，而且容易倒伏。
你这个T-top底部尺寸没有小，说明曝光剂量足够了。那么T-top的形成应该属于曝光过量，尤其是玻璃衬底的底部反射会很强烈。另外，可以看到光刻胶底部有黑色阴影，那个也属于没显影掉的部分，可能底部也曝光过量了。
SU8的曝光剂量并不高，至少我使用的是这样的。像我们的胶如果在40um的厚度的话，曝光剂量一般在150~200mJ/cm2之间。对于一般的进口光刻机，ghi三个谱线光强叠加一般是几十mW，曝光时间应该是在10秒以内。国产光刻机的话时间可能会翻番。
所以我建议在10s周围做一个分区域的曝光剂量实验。