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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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龙骧将军

铁虫 (小有名气)

[求助] su8光刻 已有2人参与

我用的是su8 2075    为什么我所形成的圆柱体  上大下小   底部看上去挺圆的 但顶部有多余的部分怎么也显影不掉

参数:780rmp  40秒   4240rmp 90秒
前烘 65℃  3min  95℃ 9min
曝光 100秒
后烘  65℃  2min  94℃ 7min
膜厚大概40微米
掩膜版是直径为20微米的圆形阵列  基底是普通玻璃
我也试过曝光30秒,结果相似   但与基底的结合性更差

su8光刻
搜狗截图20140515191250.jpg
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whathurtsmorethepainofhardworkorthepainofregret
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静静一yi

捐助贵宾 (著名写手)

静静

商家已经主动声明此回帖可能含有宣传内容
楼主您好:

我这边有瑞士产的SU-8,40um的有现货,它的厚度范围从200nm-400um有不同型号可供选择,我们以最后的1075为例,在原有厂家给的标准工艺上已经摸出了一套自己实验的光刻实验数据,可以法你参考下。

祝好~
祝实验成功!
15501697107
7楼2014-05-18 15:09:27
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查看全部 14 个回答

tsung

木虫 (小有名气)

我想问几个问题。探讨一下。呵呵
你需要的圆柱高度是多少?曝光的功率多少?mask和wafer的距离是多少?接触类型是什么?
ilovescience
2楼2014-05-15 20:57:33
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龙骧将军

铁虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by tsung at 2014-05-15 20:57:33
我想问几个问题。探讨一下。呵呵
你需要的圆柱高度是多少?曝光的功率多少?mask和wafer的距离是多少?接触类型是什么?

圆柱高度大约40微米,我用的光刻机是MJB4的  至于曝光功率我不清楚  技术员也不知道  接触类型是软接触的
whathurtsmorethepainofhardworkorthepainofregret
3楼2014-05-16 10:04:26
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
比较典型的曝光不足,让底部过度显影导致的。
这是我用瑞士的SU8的经验,和你用的美国那家不一定相同,仅供参考。
4楼2014-05-16 14:41:36
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