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请教光刻掩模瞬态热分析问题 已有2人参与
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小弟现从事X射线光刻方向研究，遇到了关于掩模在同步辐射光照射下的瞬态热分析问题。 现有一有效面积为直径83mm的圆形掩模，在垂直带宽为8mm的光束以20mm/sec的速度扫描照射下，使用ANSYS对整个掩模进行瞬态热分析，应该如何进行？ 模型描述：掩模受照射的面积为直径83mm的圆形，扫描开始时光束以200mm/sec^2的加速度开始从距离掩模2mm的位置起步，前沿到达掩模后转为20mm/sec的匀速通过照射区域，当后端离开时以200mm/sec^2的减速度减速，停止后重新开始反向加速，重复之前的过程。 目前的思路是: 1. 使用Matlab求出在给定时间步长下的光带端点坐标，建立以时间为参考的坐标系统来描述变化的受照射区域；2. 将得到的实时面积代入ANSYS中，使用APDL来施加变化的移动热载荷于掩模上，热载荷类型为内部生热；3. 进行瞬态热分析，以第1步Matlab中的时间步长为基准。 发现难点是这个移动热载荷不只有位移，同时还有面积的变化，请教各位高人应当如何处理？多谢赐教  Model1.jpg  3.jpg  2.jpg |
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Kingchan01
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