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[交流]
微弧氧化中直流模式与脉冲模式具体会产生什么不同的效果？
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维护氧化过程，有人采用直流模式，控制电压或者电流恒定。 更多的人则采用脉冲模式，调节不同的频率，占空比，等等。 想请问一下，直流和脉冲两种模式有什么区别？ 脉冲模式下，频率和占空比对氧化层的形成会有什么影响？ [ Last edited by crossgate2 on 2014-4-8 at 17:03 ] |
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