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mytigercat

金虫 (小有名气)

[求助] ICP-OES 求助 已有1人参与

ICP-OES小白,向各位达人求助
最近一直尝试测量不同matrix的金属钠的含量,发现都比标准值低了一些些,很郁闷。
使用的仪器是Shidmadzu ICPE-9000
测量条件:
射频功率:1200W; Plasma Gas:10.0L/min; Auxilary Gas:0.6L/min; Carrier Gas:0.7L/min
样品浓度试过0.5ppm,0.05ppm, 目前根据结果选择的波长是589.5nm

其实OES只是学会了基本的使用,根本不清楚改变各参数对结果的影响,自觉得样品制备没有损失,很想知道该从哪方面入手能解决问题,请各位不吝赐教,不胜感激。
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xiaoyuyxy

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖


感谢参与,应助指数 +1
mytigercat: 金币+1, 有帮助 2014-02-24 13:16:16
没用过岛津的ICP,通常ICP测试时,需要考虑的因素有前处理(主要是挥发损失及污染)、仪器参数优化(不过貌似大部分情况下可以使用仪器默认的工作参数),再有就是测试过程跟谱图处理了。
前处理正常的话,看一下你的标液跟样品酸度一致不?样品基体(就是你说的matrix)对钠是否存在干扰。
2楼2014-02-19 20:50:31
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