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在20nm的二氧化硅层上rie100nm的孔洞 光刻胶为pmma，匀胶300nm，请问曝光时间强度 已有2人参与
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3楼2014-01-16 21:03:48
yswyx 
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2楼2014-01-16 16:21:08
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4楼2014-01-16 21:03:59
fyl1989
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5楼2014-01-17 13:56:12