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在20nm的二氧化硅层上rie100nm的孔洞 光刻胶为pmma，匀胶300nm，请问曝光时间强度 已有2人参与
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| 哪位大侠能给出具体光刻步骤和参数 在下不胜感激 |
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yswyx 
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4楼2014-01-16 21:03:59
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5楼2014-01-17 13:56:12
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