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[求助]
在20nm的二氧化硅层上rie100nm的孔洞 光刻胶为pmma，匀胶300nm，请问曝光时间强度 已有2人参与
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| 哪位大侠能给出具体光刻步骤和参数 在下不胜感激 |
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7楼2014-09-29 09:44:37