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sin81

金虫 (正式写手)

[求助] 外延生长薄膜质量问题

最近开始做了一些这方面的实验,发现选择好晶格常数比较匹配的基地,还是比较容易长出外延的薄膜,但虽然XRD测出是很好的外延,在AFM下,表面并没有想象中的那么平。就是感觉应该长成像买的基地那样的台阶式的膜,但AFM看起来也是有起伏的,像些颗粒状,虽然起伏不大,在几个nm内。
请问这是什么原因啊? 应该如何控制的出很高质量的平整的膜啊?

还有,如果长在不导电的基地上,想测一些光电学性质,有化学工作站测, 会不会因为导电性差而有问题啊?
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feixiangmars

铜虫 (初入文坛)

另外,若是位错密度太大导致表面PITS等缺陷过多,则必须引用降低位错的工艺来提升表面平整度。
Noting is impossible for the willing mind.
4楼2013-06-30 21:08:10
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shaoyin45

禁虫 (著名写手)

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
sin81: 金币+10, 有帮助 2013-06-23 17:33:42
本帖内容被屏蔽

2楼2013-06-23 16:43:35
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feixiangmars

铜虫 (初入文坛)


nofrunolif: 金币+1, 鼓励新虫 2013-06-30 22:59:41
两种材料的应力失配,外延层与衬底的晶格失配度和热失配度若太大,外延层很难长平,可以控制生长速率、温度、压力等参数,降低成长速率,则应该较容易长原子台阶的表面。

另外,测试时也要注意,测试的速度尽量慢、同时,AFM的针要比较新,测试环境要尽量少震动,则测出来的效果会比较好
Noting is impossible for the willing mind.
3楼2013-06-30 21:07:08
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