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外延生长薄膜质量问题
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最近开始做了一些这方面的实验，发现选择好晶格常数比较匹配的基地，还是比较容易长出外延的薄膜，但虽然XRD测出是很好的外延，在AFM下，表面并没有想象中的那么平。就是感觉应该长成像买的基地那样的台阶式的膜，但AFM看起来也是有起伏的，像些颗粒状，虽然起伏不大，在几个nm内。 请问这是什么原因啊？ 应该如何控制的出很高质量的平整的膜啊？ 还有，如果长在不导电的基地上，想测一些光电学性质，有化学工作站测， 会不会因为导电性差而有问题啊？ |
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