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外延生长薄膜质量问题
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最近开始做了一些这方面的实验,发现选择好晶格常数比较匹配的基地,还是比较容易长出外延的薄膜,但虽然XRD测出是很好的外延,在AFM下,表面并没有想象中的那么平。就是感觉应该长成像买的基地那样的台阶式的膜,但AFM看起来也是有起伏的,像些颗粒状,虽然起伏不大,在几个nm内。 请问这是什么原因啊? 应该如何控制的出很高质量的平整的膜啊? 还有,如果长在不导电的基地上,想测一些光电学性质,有化学工作站测, 会不会因为导电性差而有问题啊? |
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sin81: 金币+10, ★有帮助 2013-06-23 17:33:42
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2楼2013-06-23 16:43:35
feixiangmars
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3楼2013-06-30 21:07:08
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4楼2013-06-30 21:08:10










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