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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 新能源材料 » 外延生长薄膜质量问题
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sin81

金虫 (正式写手)

[求助] 外延生长薄膜质量问题

最近开始做了一些这方面的实验，发现选择好晶格常数比较匹配的基地，还是比较容易长出外延的薄膜，但虽然XRD测出是很好的外延，在AFM下，表面并没有想象中的那么平。就是感觉应该长成像买的基地那样的台阶式的膜，但AFM看起来也是有起伏的，像些颗粒状，虽然起伏不大，在几个nm内。
请问这是什么原因啊？ 应该如何控制的出很高质量的平整的膜啊？

还有，如果长在不导电的基地上，想测一些光电学性质，有化学工作站测， 会不会因为导电性差而有问题啊？
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1楼 2013-06-04 22:45:08
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shaoyin45

禁虫 (著名写手)
★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
sin81: 金币+10, ★有帮助 2013-06-23 17:33:42
本帖内容被屏蔽
2楼2013-06-23 16:43:35
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feixiangmars

铜虫 (初入文坛)
★
nofrunolif: 金币+1, 鼓励新虫 2013-06-30 22:59:41
两种材料的应力失配，外延层与衬底的晶格失配度和热失配度若太大，外延层很难长平，可以控制生长速率、温度、压力等参数，降低成长速率，则应该较容易长原子台阶的表面。

另外，测试时也要注意，测试的速度尽量慢、同时，ＡＦＭ的针要比较新，测试环境要尽量少震动，则测出来的效果会比较好
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Noting is impossible for the willing mind.
3楼2013-06-30 21:07:08
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feixiangmars

铜虫 (初入文坛)
另外，若是位错密度太大导致表面ＰＩＴＳ等缺陷过多，则必须引用降低位错的工艺来提升表面平整度。
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Noting is impossible for the willing mind.
4楼2013-06-30 21:08:10
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