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硅片形貌处理问题
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咕噜0鱼
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硅片形貌处理问题
买了两家不同厂家的硅片,都是N型的,晶向<100>,唯一不同的是电阻率一个是<0.01Ω cm,一个是0.01-0.02Ω cm。在显微镜下看,相同的倍数得到的图片是这样的,想请教一下各位能不能把第一种(<0.01Ω cm)腐蚀成第二种(0.01-0.02Ω cm)呢?
第一种.jpg
第二种.jpg
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1楼
2013-04-24 21:35:36
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2013-04-26 19:15:58
非常感兴趣这个实验。
你两种硅片分别是买的谁家的?
从腐蚀效果上看第二种好像片子质量要差。腐蚀是沿着缺陷的位置先腐蚀的,所以100面典型的方坑如果密度大的话,应该缺陷密度也大。
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2楼
2013-04-25 17:48:51
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引用回帖:
2楼
:
Originally posted by
yswyx
at 2013-04-25 17:48:51
非常感兴趣这个实验。
你两种硅片分别是买的谁家的?
从腐蚀效果上看第二种好像片子质量要差。腐蚀是沿着缺陷的位置先腐蚀的,所以100面典型的方坑如果密度大的话,应该缺陷密度也大。
缺陷密度大的电阻率会更小吗?我图放错位置了,要对换一下,你看到的密密麻麻的那种电阻率会小一点。感觉密密麻麻的这种放在碱里面会变成第一种。
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3楼
2013-04-26 19:18:37
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有帮助, 3
2013-05-06 08:48:06
引用回帖:
3楼
:
Originally posted by
咕噜0鱼
at 2013-04-26 19:18:37
缺陷密度大的电阻率会更小吗?我图放错位置了,要对换一下,你看到的密密麻麻的那种电阻率会小一点。感觉密密麻麻的这种放在碱里面会变成第一种。...
这个解释有可能成立。
因为,电阻率小的话,掺杂就高,微缺陷的密度就高。
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4楼
2013-04-26 21:14:15
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有没有测试结果啊,学习一下
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5楼
2013-04-27 08:48:55
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