| 查看: 2648 | 回复: 23 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
[求助]
溅射的靶材烧成这样子，请各位帮我看看是什么原因
|
||
我的靶材是NiMnGa合金，直流电源功率是100W，溅射气压0.5Pa。本来是打算溅射1h，结果才溅射了30min，机器就提示没有等离子体了，无法完成程序。打开腔室，取下靶材就发现变成烧成如图的模样了。另外我放了NaCl，硅片，玻璃，旋涂了PMMA的硅片，还有云母片这几种衬底放在托盘上待沉积。 20130306_162704.jpg  20130306_162618.jpg |
回复此楼» 本帖已获得的红花（最新10朵）
dearhanzi» 猜你喜欢
考博
已经有3人回复
-
有没有快的中文核心比较快录用的，纳米材料光催化
已经有4人回复
-
本人42，博士刚毕业，现在找不到工作，怎么办？:(
已经有21人回复
-
河北省自然基金
已经有6人回复
-
有人投过CCC中国控制会议吗？
已经有3人回复
-
3,4-二羟基苯乙酮如何纯化？
已经有5人回复
-
国基评审
已经有10人回复
-
2026-博士申请
已经有4人回复
-
考研调剂
已经有3人回复
14楼2013-03-08 14:01:31
2楼2013-03-07 00:05:02
3楼2013-03-07 14:02:59
4楼2013-03-07 14:06:37