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半导体氧化锌薄膜
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weibaobao
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半导体氧化锌薄膜
最近做的膜层30nm厚,方阻不到30欧,计算得到的电阻率值达到10的负四次方,还是在ITO玻璃上面涂的膜,让人匪夷所思阿,看到的文献电阻率都是掺杂铝等后电阻率的值才那么低。。。。。。。。。。旋涂几次退火后膜层厚度没有变化
三四五层只增加到50左右。。。。
[
Last edited by weibaobao on 2012-8-29 at 20:53
]
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2012-08-27 17:39:05
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zhuzhen
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5楼
:
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weibaobao
at 2012-08-27 15:09:50
那扣除我ITO玻璃,我的氧化锌膜层的电阻率岂不是更小了?...
太薄,肯定有测试电流经过衬底,那类似并联吧,下次加个绝缘玻璃陪片对比下吧。多层膜某些波段会增透的,所以以空气做背景线吧,另外单独表征薄膜透过率也没意义啊,应用时你又不剥离,而是作为一个整体样品
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2012-08-28 16:57:07
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请教你这40nm厚的薄膜是长上去的还是溅射上去的呢?谢谢。
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2楼
:
Originally posted by
辉太狼121
at 2012-08-27 21:16:15
请教你这40nm厚的薄膜是长上去的还是溅射上去的呢?谢谢。
旋涂法
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注意啦,你用的衬底是导电的,ito电阻率就在10e-4。另外透过率与你参照物有关,衬底的话有可能超过100
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4楼
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