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请教：在制备薄膜过程中，加热基片和后退火，原子的动能哪个大？
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请教：在磁控溅射制备薄膜过程中，如果加热基片，溅射原子达到基片后会从基片上获得能量进一步移动， 如果不加热基片，而是制备完薄膜后，通过后退火，原子也可以发生移动？ 那么这两种方式 哪种原子移动的更厉害 或者 为原子提供的迁移能更大 |
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2楼2012-07-10 21:30:03
zhangbin07
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3楼2012-07-11 03:19:25
4楼2012-07-11 08:49:15