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wenzhoucmm

新虫 (初入文坛)

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[求助] 新手求助，磁控溅射，在银上溅射SiO2二氧化硅

求助，有谁做过在银上射频溅射二氧化硅么？我是先在玻璃片上直流溅射一层约50nm厚的银膜然后然后转射频溅射镀500nm厚的SiO2，样品拿出来一个小时后发现脱皮的现象，要怎么办呀？求高手相助！

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1楼 2012-04-28 08:55:02

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leongoall

专家顾问 (知名作家)

P-M-I之初生牛犊

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【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1

楼上几位说的可能不太正确！
脱皮肯定是应力造成的！引起应力大的原因只有两种，一种是内部缺陷，一种是热膨胀系数的失配。这两种原因与最终表现出来的应力关系很复杂，但是大体可以分为两种：拉应力和压应力。
楼主首先观察脱皮的现象，脱下来的片状是向上凸的还是向下凹的，如果是向下凹，说明是拉应力，一般来说是主要是由于薄膜生长过快，缺陷积累就相应变得很快，可以适当降低镀膜过程中的溅射功率或降低溅射气体压强；如果片状物是向上凸（拱起来），说明是压应力，一般说来主要是由于热膨胀系数失配造成，可以考虑在镀膜过程中给基底加热，但是加热的温度需要查阅相关文献！
祝好运！