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fcy110918铁杆木虫 (正式写手)
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离子溅射镀膜
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想在硅片上镀上一层金，然后通过镀膜时间来控制厚度 现在有了ETD-3000离子溅射仪，新买的，不会用。 1.有说是要充入氩气，有的说可以不充，到底应该怎么样？ 2.真空度要多低，电流多大，镀金的效果好一点，镀的均匀一点？ 3.镀金时，对基底的微纳结构有影响吗，可以保持原来的纳米结构吗？ 跪求有经验的虫子能够指点迷津  本人刚开始做实验 菜鸟级别  |
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fcy110918
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