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babu

金虫 (小有名气)

[求助] CeO2-SiO2的H2-TPR分析

做了CeO2-SiO2的H2-TPR,出现了三个CeO2的还原峰,b峰为表相氧还原,c峰对应体相氧还原,请各位大侠指正下a峰对应的是什么氧物种的还原
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babu

金虫 (小有名气)

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2楼: Originally posted by baishuxing at 2012-04-16 20:27:32:
a峰 应该就是表面化学吸附的氧的还原峰吧

请问有没有相应的参考文献啊
3楼2012-04-16 20:31:00
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babu

金虫 (小有名气)

继续求助。。。
希望有其他高手再详细分析分析,如果有参考文献也帮我指出。小女子在此拜谢了!
4楼2012-04-16 20:45:34
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babu

金虫 (小有名气)

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5楼: Originally posted by baishuxing at 2012-04-16 21:32:19:
我觉得你该重复一下你的数据,我查了些文献,CeO2/SiO2的H2-TPR基本都没有这样一个峰,即使有的话 也很小 基本可以忽略的那种

Catalysis Today 50 (1999) 413-427  
Effects of highly dispersed ceria addi ...

我其实做了好几个比例的铈硅氧化物,H2-TPR也重复了好几遍,那个峰都存在。我找了两篇文献,但是它们都很笼统的归属为CeO2晶格氧的还原峰。所以上来求助大家,看有没有见过类似的现象
6楼2012-04-16 21:38:06
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babu

金虫 (小有名气)

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7楼: Originally posted by baishuxing at 2012-04-16 21:46:53:
你说说你是怎么预处理的吧?

我是用氢气500度还原30min,然后再切换到氧气氧化20min
8楼2012-04-16 22:00:22
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babu

金虫 (小有名气)

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9楼: Originally posted by baishuxing at 2012-04-16 22:04:07:
这样就完啦?

然后降到室温,等待基线平稳后开始测试
10楼2012-04-16 22:13:07
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babu

金虫 (小有名气)

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11楼: Originally posted by baishuxing at 2012-04-16 22:23:32:
降温之前要用惰性气体吹扫的
Ar就行
把表面吸附的O2去掉
再降温做
那你图上的峰a 就是表面吸附的氧

非常感谢
12楼2012-04-16 23:12:27
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babu

金虫 (小有名气)

???????:
14?: Originally posted by baishuxing at 2012-04-17 08:55:45:
呵呵,主??是???法??对,图上的峰是看??出是物??????附还是化学???附???

??????????????????
15楼2012-04-17 08:58:23
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babu

金虫 (小有名气)

引用回帖:
16楼: Originally posted by baishuxing at 2012-04-17 09:00:55:
呵呵,主要是做法不对,图上是看不出来是物理吸附还是化学吸附。

做好处理就没这问题啦

那我掺了ZrO2以后,这个峰就往260度移动了,能说明是化学吸附吗
17楼2012-04-17 09:07:45
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babu

金虫 (小有名气)

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18楼: Originally posted by baishuxing at 2012-04-17 09:09:46:
文献上都没这么做的,TPR是做催化剂还原能力的,不是看氧气吸附的
你现在的数据需要重新做,你这么做的数据是不能用的

我知道哦,这是我测试过程的疏忽,谢谢了
19楼2012-04-17 09:19:53
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