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huibenben

金虫 (小有名气)

[求助] 用PECVD和LPCVD能生长的氮化硅膜厚范围

用PECVD和LPCVD能生长的氮化硅膜厚范围

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khome1987
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zb19821212

铁杆木虫 (职业作家)

挖掘钛白粉....

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
huibenben(金币+5, 博学EPI+1): ★★★★★最佳答案, 谢谢 2012-03-13 19:51:53
氮化硅薄膜厚度一般在1微米以下,再厚的话就没有什么应用价值了
3楼2012-03-13 17:21:12
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liu2004m

荣誉版主 (文坛精英)

优秀版主优秀版主优秀版主

【答案】应助回帖

这个应该从几个nm可以一直长到你需要的厚度吧,只要你不停,膜就会一直长啊
2楼2012-03-13 14:52:57
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大当家

铜虫 (小有名气)


xinmor: , 请勿发广告。 2012-06-06 20:37:35
铂悦公司主要负责PROTOFLEX量子效率、IV测试及真空镀膜、沉积处理系统及太阳能中试线等全线产品在中国区的独家销售并售后服务支持
美国ProtoFlex是一家专注于生产中小型薄膜沉积设备及测量设备的美国公司。其创办人及公司技术总监Pawan Bhat博士有超过25年的薄膜测试经验,跨越了薄膜电池存储,可再生能源系统,光存储材料和真空制程等应用
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4楼2012-04-10 14:31:36
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大水杯

木虫 (著名写手)

小虫

在氮化硅生长方面,LPCVD与PECVD有何区别,如在薄膜质量方面来讲。为何在湿法刻蚀中,用作保护层的氮化硅都用LPCVD生长,而不用PECVD,用PECVD生长的氮化铝能不能被用来做保护层?
^V^
5楼2012-06-06 14:14:52
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