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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 湿法刻蚀硅片和铝箔用什么做掩膜比较好？
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z_wen

金虫 (小有名气)

[求助] 湿法刻蚀硅片和铝箔用什么做掩膜比较好？

我想湿法刻蚀硅片和铝箔用什么做掩膜比较好？可不可以不用掩膜？
硅片刻蚀溶液：硝酸+氢氟酸+醋酸
铝箔刻蚀溶液：磷酸+乙酸+硝酸+去离子水
硝酸和氢氟酸跟普通的光刻胶会发生反应，请问用什么做掩膜比较好，或者有没有其他好的刻蚀溶液？
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1楼 2012-02-29 10:14:40
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dreamchinaster

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
z_wen: 金币+5, ★有帮助 2012-03-16 20:23:48
为什么你不要碱液刻蚀，却用酸液刻蚀？
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2楼2012-03-04 10:29:23
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z_wen

金虫 (小有名气)
引用回帖:
楼: Originally posted by dreamchinaster at 2012-03-04 10:29:23:
为什么你不要碱液刻蚀，却用酸液刻蚀？

碱液难道就不跟光刻胶反应么？
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3楼2012-03-04 11:11:18
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alsjiao

至尊木虫 (著名写手)
铝箔刻蚀溶液：磷酸+乙酸+硝酸+去离子水
请问一下具体比例是什么？谢谢了
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Dr.J
4楼2012-08-15 08:56:43
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babyoflion

金虫 (著名写手)
刻蚀液刻蚀铝和硅的速度大概是多少呢？要刻蚀多深？这个不同的
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5楼2014-06-10 08:19:39
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