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测定金属催化剂分散度的温度
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各位虫友： 请教一问题，在考察不同焙烧温度对催化剂表面分散度的影响时（如350℃和450℃焙烧），我采用H2-O2滴定法（HOT）测定，请问在用H2滴定时，设定温度为多少合适？ 比如我焙烧催化剂时为350℃，那么在H2滴定时，温度比350℃高呢，还是低？（我们知道，高温度会使金属聚集，如果我在H2滴定时采用450℃，催化剂金属可能积聚，表征的必然不是350℃下催化剂的表面分散度，如H2滴定设定温度低于350℃，又怕不反应，我是假设），那么，H2滴定温度对催化剂分散度测定造成什么影响？不同滴定温度会有不同测定结果么？ 呵呵，啰嗦了，谢谢关注！ PS:H2-O2滴定法测分散度，是否可以再催化剂前驱体在空气中焙烧后，直接在H2下滴定，如果不能，O2滴定时，是否可以用空气代替O2进行滴定？ [ Last edited by henianzhi on 2011-12-26 at 20:36 ] |
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henianzhi(金币+1):谢谢参与
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关于你问的这个问题，我觉得可能是这样的情况： 1、金属催化剂前驱体焙烧（考察不同温度） 2、还原（一般是H2高温还原），条件相同。 3、抽真空后H2吸附测定（H2的吸附温度相同，此吸附温度应该由不同吸附温度吸附H2后的TPD量来决定，一般情况下，许多金属如Ni，Ru等都会是室温吸附；而有些金属如Co，是需要100-150度下吸附，此时H2的吸附为活化吸附；基本没有见过高于200度以上的，另外温度越高吸附量会越少！） 4、抽真空后，高温下O2吸附。 所以你的问题是只需要考察第一步变化，后面234的条件是确定的（参考文献或自己做实验确定），不能变了，否则全是变量，没有办法说明问题了！ 因此，一般好像不会直接焙烧后测定H2吸附，因为金属可能是氧化态，另外会直接用纯氧吸附，方便计算。 [ Last edited by chenliang1982 on 2011-12-27 at 07:18 ] |
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henianzhi2楼2011-12-27 07:15:19
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