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磁控溅射镀铝的问题请教
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| 各位大侠，本人想做99.999%铝靶的磁控溅射实验，设备可以抽真空到10-5Pa，功率150W，需要得到150-180nm的膜厚，预溅射和溅射时间分别设定多长时间合适呢？ |
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有多少人是今天查系统知道结果的？
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