| 查看: 2594 | 回复: 0 | ||
[求助]
磁控溅射镀铝的问题请教
|
| 各位大侠，本人想做99.999%铝靶的磁控溅射实验，设备可以抽真空到10-5Pa，功率150W，需要得到150-180nm的膜厚，预溅射和溅射时间分别设定多长时间合适呢？ |
回复此楼» 猜你喜欢
基金申报
已经有5人回复
-
基金委咋了？2026年的指南还没有出来？
已经有7人回复
-
国自然申请面上模板最新2026版出了吗？
已经有17人回复
-
纳米粒子粒径的测量
已经有8人回复
-
疑惑？
已经有5人回复
-
计算机、0854电子信息（085401-058412）调剂
已经有5人回复
-
Materials Today Chemistry审稿周期
已经有5人回复
-
溴的反应液脱色
已经有7人回复
-
推荐一本书
已经有12人回复
-
常年博士招收(双一流，工科)
已经有4人回复
找到一些相关的精华帖子，希望有用哦~
电子束光刻磁控溅射金属剥离问题
已经有9人回复
- 磁控溅射出问题了大虾们帮帮忙
已经有6人回复
- 【请教】磁控溅射的相关问题
已经有5人回复
- 【请教】请教，关于Ar磁控溅射的溅射效率问题
已经有4人回复
- 【求助】请教磁控溅射金属膜问题
已经有23人回复
- 【求助】关于磁控溅射SiO2的问题
已经有14人回复
- 【交流】咨询磁控溅射负偏压问题
已经有5人回复
- 磁控溅射靶磁钢问题
已经有3人回复
点击这里搜索更多相关资源科研从小木虫开始，人人为我，我为人人