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weshinning

银虫 (小有名气)

[求助] 求问 没有H2-TPD信号的原因

为测700C 焙烧的Ni/MgO催化剂 Ni的分散度 进行此表征
方法如下:
1. 预处理后 升温至700℃保持1h 进行H2-TPR表征 载气为10%H2/Ar,升温速率10C/min
2.10%H2/Ar下降温至40C,保持30min (60min也做过)
3.切换成Ar载气 吹送至基线平
4.Ar载气升温至600C
5.只是在200-300C基线有个台阶(类似 _┃¯  没有其他H2脱附的信号。
  这个催化剂的使用量为200mg (也有400mg 粉末), 700度  还原度为20%左右 ?  装置用过自搭的TPD载气也严格脱氧 也有Autochem2920 按照标准的实验步骤. 不知道到底怎么回事。希望有经验者告知一二。
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cxqtitan

木虫 (著名写手)

快乐的足球

引用回帖:
8楼: Originally posted by weshinning at 2011-10-24 10:43:04:
2920 可以安置程序的啊, Step1 得到TPR图 Step2之后得到TPD。

这个没听说过,如果不介意的话你给普及一下,给我们一个学习机会。
9楼2011-10-24 11:01:10
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cxqtitan

木虫 (著名写手)

快乐的足球

【答案】应助回帖

你的气体是不是通反了?在预处理的时候应该通Ar气,走基线和最后的程序升温测定过程通10%H2/Ar,从你的描述看你好像刚好反过来了。
2楼2011-10-24 09:04:42
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xuzhifeng12

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

建议前期吹扫过程使用Ar气,然后进行混合气吸附,最后经Ar气吹扫脱附。
坚持不懈,追求自己想要的生活。
3楼2011-10-24 09:36:46
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weshinning

银虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by cxqtitan at 2011-10-24 09:04:42:
你的气体是不是通反了?在预处理的时候应该通Ar气,走基线和最后的程序升温测定过程通10%H2/Ar,从你的描述看你好像刚好反过来了。

你是说TPR吧  脱附肯定在惰气Ar中啊
4楼2011-10-24 10:05:07
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