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jhnini

铜虫 (小有名气)

[求助] 直流溅射与直流磁控溅射是同一种溅射方法吗?谢谢

请问直流溅射(dc sputtering)与直流磁控溅射(dc magnetron sputtering)是同一种溅射方法吗?还是有区别的?非常感谢!
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wydmhy

至尊木虫 (职业作家)

【答案】应助回帖


aishan(金币+1): 感谢交流 2011-10-08 09:19:28
个人看法
1、磁控溅谢主要是加个磁场来聚焦如Ar离子,听说过较多的是直流磁控溅射。
2、射频溅射也是磁控的,为什么不说射频磁控溅射?我想和直流溅射应该都是说法上的省略吧。
2楼2011-10-07 22:41:49
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muren2001

铜虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖


aishan(金币+1): 感谢交流 2011-10-08 16:00:03
两种方法是有区别的,区别在于等离子体产生后,是否需要外加磁场来进一步约束控制离子的运动轨迹
3楼2011-10-08 15:58:16
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