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jhnini

铜虫 (小有名气)

[求助] 直流溅射与直流磁控溅射是同一种溅射方法吗？谢谢

请问直流溅射（dc sputtering）与直流磁控溅射（dc magnetron sputtering）是同一种溅射方法吗？还是有区别的？非常感谢！
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1楼 2011-09-27 08:51:40
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muren2001

铜虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★
aishan(金币+1): 感谢交流 2011-10-08 16:00:03
两种方法是有区别的，区别在于等离子体产生后，是否需要外加磁场来进一步约束控制离子的运动轨迹
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3楼2011-10-08 15:58:16
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wydmhy

至尊木虫 (职业作家)

【答案】应助回帖

★
aishan(金币+1): 感谢交流 2011-10-08 09:19:28
个人看法
1、磁控溅谢主要是加个磁场来聚焦如Ar离子，听说过较多的是直流磁控溅射。
2、射频溅射也是磁控的，为什么不说射频磁控溅射？我想和直流溅射应该都是说法上的省略吧。
赞一下(1人) 回复此楼
2楼2011-10-07 22:41:49
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