| 查看: 714 | 回复: 2 | ||
[求助]
硅 深度刻蚀
|
| 我想用湿法刻蚀方法（KOH刻蚀液）对P型（100）硅做深度刻蚀。深度大约是在250微米左右。请问各位，只在硅表面用热氧生长一层SiO2作为掩膜层抗腐蚀。这样做能刻蚀这么深吗？ |
回复此楼» 猜你喜欢
无机化学论文润色/翻译怎么收费?
已经有149人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- 硅片湿法刻蚀 怎么刻蚀不上啊？求救
已经有11人回复
- 俄罗斯科学家开发出氧化铝生产新方法
已经有5人回复
- 可以用负胶做掩模刻蚀氮化硅吗？
已经有7人回复
- 多晶硅、单晶硅、薄膜硅、非晶硅表面刻蚀技术
已经有3人回复
- 【求助】硅纳米线刻蚀
已经有10人回复
- 【求助】氢氟酸刻蚀硅片，粗糙度是怎么变化的啊？
已经有16人回复
- 【讨论】金属辅助化学刻蚀硅纳米线 金颗粒
已经有10人回复
- 【求助】氢气、氮气等离子体刻蚀硅
已经有4人回复
- AgNO3和HF刻蚀硅纳米线的溶液配置问题
已经有10人回复
- 【求助】一张铝硅近共晶深度腐蚀扫描电镜图片
已经有11人回复
- 【求助】关于湿法刻蚀
已经有17人回复
quanten
金虫 (著名写手)
QQ群(NW-FET): 157220400
- 应助: 34 (小学生)
- 金币: 1672.3
- 散金: 204
- 红花: 18
- 帖子: 1055
- 在线: 570.9小时
- 虫号: 478681
- 注册: 2007-12-14
- 性别: GG
- 专业: 半导体电子器件
2楼2011-08-12 01:47:38
hyliu0203
木虫 (正式写手)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 1676.3
- 散金: 20
- 红花: 20
- 帖子: 634
- 在线: 385.8小时
- 虫号: 437786
- 注册: 2007-09-06
- 专业: 金属材料的力学行为
3楼2013-03-01 16:52:14
28