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求助:关于有关物质的专属性研究
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在药剂质量研究-有关物质的专属性研究中,用酸、碱、氧化、光照、热处理以后HPLC检测,其结果现有如下的迷惑: 1.比如是针对某个杂质进行的,按定量的研究,其结果是反映强制性条件对该杂质的破坏情况呢,还是说对主峰的破坏产生的新杂质峰能够与针对杂质很好分离? 2.在结果表述的时候,是只要表明该杂质能够被很好检出,与其他新杂质很好分离;还是表述成破坏以后所有杂质峰都能够很好的分离开?要求所有的杂质都能够分离度很好么? |
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2楼2011-06-02 07:24:05
【答案】应助回帖
★
飞翔156(金币+10): 2011-06-02 20:11:48
qinhy(金币+1, EPI+1): 谢谢回复~ 2011-06-05 21:42:02
飞翔156(金币+10): 2011-06-02 20:11:48
qinhy(金币+1, EPI+1): 谢谢回复~ 2011-06-05 21:42:02
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主要破坏产生的新杂质峰,杂质间、杂质与主峰间、杂质与辅料峰间、主峰与辅料峰间都能有较好的分离,说明了选择的色谱条件较好。另外,因为物料是守恒的,如果破坏产生新杂质,则主峰肯定是降解的,一般破坏试验的最佳条件是使用主峰降解了10%至15%为佳,如果破坏后主峰降解,没有产生约相同量的杂质,那说明你的色谱条件有问题。 做破坏试验时,最好是做原料、制剂、混合辅料都分别按相同的破坏条件去破坏,再检测,经过比较,可以看出检测条件是否合理。 |

3楼2011-06-02 09:50:56
zgf340631735
至尊木虫 (文坛精英)
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【答案】应助回帖
★
飞翔156(金币+10): 2011-06-02 20:12:59
qinhy(金币+1, EPI+1): 多谢提供~ 2011-06-03 11:04:04
飞翔156(金币+10): 2011-06-02 20:12:59
qinhy(金币+1, EPI+1): 多谢提供~ 2011-06-03 11:04:04
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破坏还要检测主峰的纯度(用二极管阵列检测器)就是看主峰是不是就是你要的那个物质出的峰,是不是有其它杂质在主峰这个位置也有响应。 破坏的强度不要太剧烈杂质降解出10%~20%就可以了。 针对问题: 1.主峰的破坏产生的杂质峰能够与主峰和针对杂质很好分离。 2.针对杂质能够被很好检出,破坏以后所有杂质峰都能够很好的分离开。 其实结果表述时说的合理全面就行了。 还有做制剂破坏的时候,要把相应的空白辅料也同条件下做破坏,看看是否有杂质出来,对主峰及杂质检测是不是有干扰。 |

4楼2011-06-02 13:48:24
caizhengjun
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5楼2011-06-02 16:46:37
6楼2011-06-02 20:17:36
caizhengjun
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7楼2011-06-03 08:26:12
caizhengjun
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8楼2011-06-03 08:28:40
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qinhy(金币+1): 谢谢回复~ 2011-06-05 21:42:24
飞翔156(金币+10): 2011-06-09 22:05:17
qinhy(金币+1): 谢谢回复~ 2011-06-05 21:42:24
飞翔156(金币+10): 2011-06-09 22:05:17
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9楼2011-06-03 09:03:59














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