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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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qgmeng2005

金虫 (小有名气)

[求助] 薄膜退火问题

RT,我采用磁控溅射陶瓷靶材制备薄膜,薄膜厚度在几个微米左右,但是900-1000℃退火之后只有500nm左右,而且薄膜平整,XRD测试也没有衍射峰形成晶型。请问可能是什么原因呢
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Tommy8726

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖


huangzx1314(金币+1): 鼓励交流,要是能简单介绍一下各个参数对其影响就更好了~~ 2011-05-23 23:52:56
我也是用RF磁控溅射……嗯,这个东西,主要控制溅射功率,工作压,氧分压,温度……挺麻烦,多试试改变一些参数吧
7楼2011-05-23 23:48:43
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mse507

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
Originally posted by qgmeng2005 at 2011-05-13 17:02:25:
RT,我采用磁控溅射陶瓷靶材制备薄膜,薄膜厚度在几个微米左右,但是900-1000℃退火之后只有500nm左右,而且薄膜平整,XRD测试也没有衍射峰形成晶型。请问可能是什么原因呢

你至少的说说你做的什么薄膜吧,别人也好帮你分析下.
2楼2011-05-13 19:28:18
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qgmeng2005

金虫 (小有名气)

引用回帖:
Originally posted by mse507 at 2011-05-13 19:28:18:
你至少的说说你做的什么薄膜吧,别人也好帮你分析下.

不好意思,我做的是CuAlO2薄膜~
3楼2011-05-14 10:32:08
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mse507

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖


enquan123(金币+1): 鼓励交流,欢迎常来论坛交流~ 2011-05-15 13:22:18
引用回帖:
Originally posted by qgmeng2005 at 2011-05-14 10:32:08:
不好意思,我做的是CuAlO2薄膜~

这玩儿意难做,控制气氛(氧分压)是关键。另外温度不用那么高。
4楼2011-05-15 13:19:25
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