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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 【请教】SiO2包覆
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axuejiang

捐助贵宾 (小有名气)

[交流] 【请教】SiO2包覆

在看包覆的文章的时候，有的文章用TEOS作为硅源，有的文献用TMOS作为硅源，请问一下这两个在包覆的时候有什么不同吗？哪个更适合做金属包覆？谢谢
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1楼 2011-02-18 15:12:10
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量子钻石糖

铜虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
引用回帖:
1027957楼: Originally posted by 772968930 at 2011-02-18 16:04:28:
我看我们实验室包裹磁性颗粒用的TMOS

请问 你有关于TMOS 水解的文章吗？
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10楼2012-03-18 17:01:34
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772968930

金虫 (正式写手)

TMOS

qianniuhua201: 鼓励交流 2011-02-19 13:06:11
我看我们实验室包裹磁性颗粒用的TMOS
赞一下(1人) 回复此楼
2楼2011-02-18 16:04:28
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axuejiang

捐助贵宾 (小有名气)
你们为什么不用TEOS，知道他们两个的不同吗
赞一下 回复此楼
3楼2011-02-18 16:09:27
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cox1984819

银虫 (初入文坛)
qianniuhua201: 鼓励交流 2011-02-19 13:06:28

基本没有不同。
gelation time不一样。TEOS比较常用，便宜。TMOS反映快。
赞一下(1人) 回复此楼
4楼2011-02-19 09:37:29
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